プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.58→26.79 Å / Num. obs: 29192
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
REFMAC
5.7.0029
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.58→26.79 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.938 / SU B: 13.577 / SU ML: 0.136 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.191 / ESU R Free: 0.178 / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23026
1564
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.2004
-
-
-
obs
0.20187
29192
95.71 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK