モノクロメーター: SAGITALLY FOCUSED Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97929 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 7.8 % / Av σ(I) over netI: 22.29 / 数: 215442 / Rmerge(I) obs: 0.085 / Χ2: 0.92 / D res high: 1.85 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 27597 / % possible obs: 98.9
D res high: 2.36 Å / D res low: 50 Å / FOM : 0.278 / FOM acentric: 0.324 / FOM centric: 0 / 反射: 13542 / Reflection acentric: 11622 / Reflection centric: 1920
Phasing MAD set
R cullis acentric: 1.52 / R cullis centric: 1 / 最高解像度: 2.36 Å / 最低解像度: 50 Å / Loc acentric: 0.1 / Loc centric: 0.1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0 / Reflection acentric: 11622 / Reflection centric: 1920
Phasing MAD set shell
ID: 1 / R cullis centric: 1 / Power acentric: 0 / Power centric: 0
解像度 (Å)
R cullis acentric
Loc acentric
Loc centric
Reflection acentric
Reflection centric
14.19-50
2.21
0.5
0.2
33
38
8.27-14.19
1.32
0.4
0.3
177
92
5.83-8.27
1.98
0.4
0.2
457
161
4.51-5.83
1.33
0.2
0.2
867
218
3.67-4.51
1.16
0.2
0.1
1404
273
3.1-3.67
1.34
0.1
0.1
2062
324
2.68-3.1
1.84
0.1
0
2856
380
2.36-2.68
2.33
0.1
0
3766
434
Phasing MAD set site
Atom type symbol: Se / Occupancy iso: 0
ID
B iso
Fract x
Fract y
Fract z
Occupancy
1
44.0586
-0.112
-0.856
-0.149
6.244
2
41.4825
0.189
-1
-0.277
5.202
3
35.6817
0.076
-0.853
-0.266
4.011
4
37.8639
0.12
-0.972
-0.205
4.047
5
37.7091
0.31
-0.8
-0.345
2.511
6
45.0738
0.466
-0.819
-0.336
2.31
7
75.5197
-0.16
-0.777
-0.212
3.949
8
63.6299
0.196
-1.089
-0.23
2.163
9
81.569
-0.02
-0.994
-0.32
1.959
Phasing MAD shell
解像度 (Å)
FOM
FOM acentric
FOM centric
反射
Reflection acentric
Reflection centric
14.19-50
0.178
0.383
0
71
33
38
8.27-14.19
0.284
0.431
0
269
177
92
5.83-8.27
0.395
0.534
0
618
457
161
4.51-5.83
0.384
0.48
0
1085
867
218
3.67-4.51
0.342
0.408
0
1677
1404
273
3.1-3.67
0.328
0.38
0
2386
2062
324
2.68-3.1
0.254
0.288
0
3236
2856
380
2.36-2.68
0.198
0.221
0
4200
3766
434
Phasing dm
手法: Solvent flattening and Histogram matching / 反射: 27132
Phasing dm shell
解像度 (Å)
Delta phi final
FOM
反射
7.25-100
65
0.686
502
5.73-7.25
64.6
0.808
509
4.98-5.73
63.3
0.816
520
4.46-4.98
63.1
0.851
572
4.07-4.46
65.4
0.849
641
3.77-4.07
67.1
0.835
690
3.53-3.77
67
0.821
727
3.33-3.53
67.7
0.801
781
3.16-3.33
67.8
0.784
827
3.02-3.16
73.6
0.748
845
2.89-3.02
72.2
0.733
890
2.78-2.89
71.4
0.73
926
2.67-2.78
70.5
0.72
952
2.58-2.67
73.3
0.687
994
2.5-2.58
74.4
0.721
1040
2.43-2.5
73.6
0.681
1036
2.36-2.43
77.5
0.687
1093
2.3-2.36
89.6
0.675
1093
2.24-2.3
90.6
0.668
1151
2.19-2.24
90.9
0.669
1164
2.14-2.19
92.2
0.642
1188
2.09-2.14
91
0.635
1203
2.04-2.09
89.1
0.594
1257
2-2.04
91.3
0.595
1254
1.96-2
87.7
0.537
1276
1.93-1.96
88.8
0.527
1299
1.89-1.93
89.7
0.503
1350
1.85-1.89
92.2
0.396
1352
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MLPHARE
位相決定
直接法
6.1
位相決定
REFMAC
精密化
PDB_EXTRACT
3.11
データ抽出
SBC-Collect
データ収集
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
SHELXD
位相決定
SHELXE
モデル構築
SOLVE
位相決定
RESOLVE
位相決定
ARP/wARP
モデル構築
CCP4
位相決定
O
モデル構築
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.85→35.53 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.941 / WRfactor Rfree: 0.2184 / WRfactor Rwork: 0.1689 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 0.5 / FOM work R set: 0.8801 / SU B: 5.9 / SU ML: 0.088 / SU R Cruickshank DPI: 0.1516 / SU Rfree: 0.1417 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.152 / ESU R Free: 0.142 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2133
1290
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1661
-
-
-
all
0.1685
25528
-
-
obs
0.1685
25528
91.72 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK