プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→70 Å / Num. obs: 225292 / % possible obs: 92.9 % / Observed criterion σ(I): -5 / 冗長度: 6.2 % / Biso Wilson estimate: 18.48 Å2 / Rsym value: 0.077 / Net I/σ(I): 9.5
反射 シェル
解像度: 1.6→1.63 Å / 冗長度: 5.9 % / Rmerge(I) obs: 0.951 / Mean I/σ(I) obs: 2 / % possible all: 81.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
SHELX
モデル構築
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.956 / SU B: 1.72 / SU ML: 0.059 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.084 / ESU R Free: 0.088 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20264
6300
3 %
RANDOM
Rwork
0.16551
-
-
-
obs
0.16661
203748
93.18 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK