プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9794 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.3→50 Å / Num. obs: 92519 / % possible obs: 96.6 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.41 % / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 14.8
反射 シェル
解像度: 1.3→1.35 Å / 冗長度: 3.45 % / Rmerge(I) obs: 0.37 / Mean I/σ(I) obs: 4.3 / % possible all: 94.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0116
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
autoSHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.3→51.68 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 1.775 / SU ML: 0.035 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.056 / ESU R Free: 0.058 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21964
4640
5 %
RANDOM
Rwork
0.1728
-
-
-
obs
0.17509
87879
96.74 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK