UNIPROT Q585F3 DIFFERS FROM THIS ENTRY AT POSITION 315 (GLY-ARG). Q585F3 IS THE NEAREST UNIPROT ...UNIPROT Q585F3 DIFFERS FROM THIS ENTRY AT POSITION 315 (GLY-ARG). Q585F3 IS THE NEAREST UNIPROT ENTRY TO MCA2 FROM T. BRUCEI STRAIN 427.
モノクロメーター: SI (111) / プロトコル: MAD / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1.8456
1
2
1.805
1
3
1.846
1
反射
解像度: 2.1→25.29 Å / Num. obs: 16074 / % possible obs: 93.7 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 6.6 % / Biso Wilson estimate: 19.8 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.06 / Net I/σ(I): 21.5
反射 シェル
解像度: 2.1→2.21 Å / 冗長度: 4.3 % / Rmerge(I) obs: 0.09 / Mean I/σ(I) obs: 10.5 / % possible all: 68.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
Auto-Rickshaw
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 2.1→75.87 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.929 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.892 / SU B: 4.982 / SU ML: 0.137 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.313 / ESU R Free: 0.22 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY. RESIDUES 1-2, 166-171 AND 266-279 ARE DISORDERED.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23787
813
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18112
-
-
-
obs
0.18405
15243
93.27 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK