OLIGO DESIGNED BASED ON INITIAL STRUCTURE WITH FRAGMENT OF LARGER DNA.THE GENBACK REFERENCE ...OLIGO DESIGNED BASED ON INITIAL STRUCTURE WITH FRAGMENT OF LARGER DNA.THE GENBACK REFERENCE PROVIDED BY AUTHOR FOR CHAIN A IS ZP_02776037.1
モノクロメーター: DOUBLE CRYSTAL / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.98 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.5→31.15 Å / Num. obs: 54849 / % possible obs: 98.1 % / Observed criterion σ(I): 6 / 冗長度: 5.6 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 12.6
反射 シェル
解像度: 1.5→1.54 Å / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.52 / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / % possible all: 98.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: EXOIX FLAP1 FRAGMENT COMPLEX STRUCTURE 解像度: 1.5→30.34 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.93 / SU B: 1.694 / SU ML: 0.063 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.08 / ESU R Free: 0.084 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25367
2783
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21897
-
-
-
obs
0.22071
51998
97.88 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK