プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.1→50 Å / Num. obs: 70416 / % possible obs: 98.9 % / Rsym value: 0.034 / Net I/σ(I): 56.3
反射 シェル
解像度: 1.1→1.14 Å / Mean I/σ(I) obs: 4.7 / Rsym value: 0.293 / % possible all: 98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
BSS
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.1→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.968 / SU B: 0.755 / SU ML: 0.016 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.027 / ESU R Free: 0.028 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16613
3554
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.14456
-
-
-
obs
0.14564
66607
98.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK