プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. obs: 37730 / % possible obs: 97.3 % / Rsym value: 0.032 / Net I/σ(I): 40.4
反射 シェル
解像度: 1.7→1.76 Å / Mean I/σ(I) obs: 3.1 / Rsym value: 0.296 / % possible all: 94.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
BSS
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.6.0117
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.7→40 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.958 / SU B: 4.809 / SU ML: 0.074 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.1 / ESU R Free: 0.102 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN USED IF PRESENT IN THE INPUT
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21573
1886
5 %
RANDOM
Rwork
0.17756
-
-
-
obs
0.17951
35779
97.2 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK