プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.479
1
1
K, H, -L
2
0.521
反射
解像度: 2.2→50 Å / Num. obs: 29400 / % possible obs: 98.3 % / Rsym value: 0.082 / Net I/σ(I): 14.9
反射 シェル
解像度: 2.2→2.28 Å / Mean I/σ(I) obs: 3.3 / Rsym value: 0.344 / % possible all: 97.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
CrystalClear
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.2→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.922 / SU B: 4.009 / SU ML: 0.098 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.035 / ESU R Free: 0.036 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24794
1498
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.19435
-
-
-
obs
0.19714
27781
98.27 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK