モノクロメーター: Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→50 Å / Num. all: 69848 / Num. obs: 69614 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 7.3 % / Biso Wilson estimate: 34.7 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.068 / Net I/σ(I): 50.3
反射 シェル
解像度: 2.2→2.24 Å / 冗長度: 7.1 % / Rmerge(I) obs: 0.353 / Mean I/σ(I) obs: 8.2 / Num. unique all: 3417 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
SOLVE
位相決定
REFMAC
5.5.0109
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.2→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.928 / SU B: 4.829 / SU ML: 0.124 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.216 / ESU R Free: 0.187 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.237
3496
5 %
RANDOM
Rwork
0.196
-
-
-
obs
0.198
65878
99.1 %
-
all
-
65878
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK