プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.987 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.19→50 Å / Num. obs: 26702 / % possible obs: 99.3 % / Observed criterion σ(I): -1 / 冗長度: 5.3 % / Rmerge(I) obs: 0.098 / Net I/σ(I): 18.8
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Diffraction-ID
% possible all
2.19-2.27
4
0.441
2473
1
94.6
2.27-2.36
4.9
0.403
2666
1
99.1
2.36-2.47
5.3
0.316
2645
1
99.8
2.47-2.6
5.5
0.254
2663
1
100
2.6-2.76
5.6
0.197
2671
1
100
2.76-2.97
5.6
0.15
2669
1
100
2.97-3.27
5.7
0.111
2706
1
100
3.27-3.74
5.6
0.09
2700
1
100
3.74-4.72
5.6
0.077
2722
1
99.9
4.72-50
5.4
0.07
2787
1
99.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
REFMAC
5.2.0019
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 / 解像度: 2.19→41.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.955 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.934 / SU B: 8.951 / SU ML: 0.134 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.246 / ESU R Free: 0.199 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23221
2535
9.9 %
RANDOM
Rwork
0.1913
-
-
-
obs
0.19525
23012
95.41 %
-
all
-
25547
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK