温度: 293 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 7.75 詳細: 100 mM Bis-Tris Propane, 200 mM NaNO3 and 20% PEG3350, pH 7.75, vapor diffusion, hanging drop, temperature 293K
-
データ収集
回折
ID
平均測定温度 (K)
Crystal-ID
1
100
1
2
100
1
放射光源
由来
サイト
ビームライン
ID
波長 (Å)
シンクロトロン
APS
19-BM
1
0.97926
シンクロトロン
APS
19-BM
2
0.97926
検出器
タイプ
ID
検出器
日付
CUSTOM-MADE
1
CCD
2008年1月1日
CUSTOM-MADE
2
CCD
2008年1月1日
放射
ID
プロトコル
単色(M)・ラウエ(L)
散乱光タイプ
Wavelength-ID
1
SINGLEWAVELENGTH
M
x-ray
1
2
SAD
M
x-ray
1
放射波長
波長: 0.97926 Å / 相対比: 1
Reflection
冗長度: 9.3 % / Av σ(I) over netI: 26.27 / 数: 150460 / Rmerge(I) obs: 0.111 / Χ2: 1.15 / D res high: 2.75 Å / D res low: 50 Å / Num. obs: 16221 / % possible obs: 99.8
Diffraction reflection shell
最高解像度 (Å)
最低解像度 (Å)
% possible obs (%)
ID
Rmerge(I) obs
Chi squared
Redundancy
5.92
50
98.2
1
0.067
1.835
9.5
4.7
5.92
99.8
1
0.088
1.354
8.5
4.11
4.7
100
1
0.082
1.289
9.2
3.73
4.11
100
1
0.099
1.23
9.4
3.46
3.73
99.9
1
0.114
1.225
9.5
3.26
3.46
99.9
1
0.145
1.11
9.5
3.1
3.26
100
1
0.205
0.958
9.5
2.96
3.1
100
1
0.275
0.874
9.5
2.85
2.96
100
1
0.382
0.806
9.3
2.75
2.85
99.9
1
0.458
0.791
8.8
反射
解像度: 1.99→50 Å / Num. obs: 41961 / % possible obs: 99.6 % / 冗長度: 4.7 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Χ2: 0.995 / Net I/σ(I): 15.7
反射 シェル
解像度 (Å)
冗長度 (%)
Rmerge(I) obs
Num. unique all
Χ2
Diffraction-ID
% possible all
1.99-2.07
3.7
0.355
4061
0.995
1,2
97.4
2.07-2.15
4.6
0.276
4190
1.039
1,2
100
2.15-2.25
4.8
0.197
4145
0.944
1,2
100
2.25-2.37
4.8
0.147
4198
0.988
1,2
100
2.37-2.52
4.9
0.113
4191
1.017
1,2
100
2.52-2.71
4.9
0.09
4174
1.002
1,2
100
2.71-2.99
4.9
0.062
4222
1.027
1,2
100
2.99-3.42
4.8
0.048
4229
1.006
1,2
100
3.42-4.31
4.8
0.039
4249
0.909
1,2
100
4.31-50
4.5
0.032
4302
1.02
1,2
99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
PHENIX
精密化
PDB_EXTRACT
3.005
データ抽出
HKL-2000
データ収集
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.99→34.082 Å / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / FOM work R set: 0.832 / SU ML: 0.26 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 1 / 立体化学のターゲット値: MLHL
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.223
2007
4.99 %
random
Rwork
0.188
-
-
-
obs
0.19
40238
95.1 %
-
溶媒の処理
減衰半径: 0.9 Å / VDWプローブ半径: 1.11 Å / 溶媒モデル: FLAT BULK SOLVENT MODEL / Bsol: 49.273 Å2 / ksol: 0.351 e/Å3