モノクロメーター: side scattering I-beam bent single crystal; asymmetric cut 4.9650 deg. プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
0.97
1
2
1.76
1
反射
解像度: 1.75→50 Å / Num. obs: 19968 / % possible obs: 98.9 % / Rmerge(I) obs: 0.066 / Net I/σ(I): 28.1
反射 シェル
解像度: 1.75→1.81 Å / Rmerge(I) obs: 0.165 / Mean I/σ(I) obs: 10.7 / Num. unique all: 1974 / % possible all: 98.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
HKL-2000
データ収集
PHASER
位相決定
REFMAC
5.5.0089
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.75→19.35 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.933 / SU B: 2.34 / SU ML: 0.078 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.13 / ESU R Free: 0.127 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23119
1018
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.18623
-
-
-
obs
0.18856
18936
98.87 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK