解像度: 2.1→50 Å / Num. obs: 104273 / % possible obs: 96.7 % / 冗長度: 2.5 % / Rmerge(I) obs: 0.058 / Net I/σ(I): 5.3
反射 シェル
解像度: 2.1→2.17 Å / 冗長度: 1.2 % / Rmerge(I) obs: 0.248 / Mean I/σ(I) obs: 2.3 / % possible all: 88.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ収集
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.11→40.85 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 4.549 / SU ML: 0.122 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.223 / ESU R Free: 0.181 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22307
5044
5 %
RANDOM
Rwork
0.18096
-
-
-
obs
0.18306
95821
96.41 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK