プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.068 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.83→68.9 Å / Num. obs: 26698 / % possible obs: 99.7 % / Observed criterion σ(I): 5.6 / 冗長度: 13.7 % / Biso Wilson estimate: 26.401 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 24.9
反射 シェル
解像度: 1.83→1.93 Å / 冗長度: 12.5 % / Rmerge(I) obs: 0.45 / Mean I/σ(I) obs: 5.6 / % possible all: 98.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.98→19.88 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.939 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.913 / SU B: 9.425 / SU ML: 0.121 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.202 / ESU R Free: 0.183 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25993
1063
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20574
-
-
-
obs
0.20852
19626
99.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK