プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.3→31.05 Å / Num. obs: 239044 / % possible obs: 98.8 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 5.6 % / Biso Wilson estimate: 9.96 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.09 / Net I/σ(I): 15.9
反射 シェル
解像度: 1.3→1.37 Å / 冗長度: 5.5 % / Rmerge(I) obs: 0.4 / Mean I/σ(I) obs: 4.6 / % possible all: 98.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.5.0109
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: OTHER 開始モデル: NONE 解像度: 1.3→31.05 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.978 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.97 / SU B: 1.175 / SU ML: 0.023 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.041 / ESU R Free: 0.039 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.14784
12059
5 %
RANDOM
Rwork
0.12125
-
-
-
obs
0.12259
226950
98.71 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK