解像度: 1.8→50 Å / Num. obs: 56481 / % possible obs: 98.2 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 3.6 % / Rsym value: 0.046 / Net I/σ(I): 28.8
反射 シェル
解像度: 1.8→1.86 Å / 冗長度: 2.5 % / Mean I/σ(I) obs: 2 / Rsym value: 0.504 / % possible all: 88.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
SOLVE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.8→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.972 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 4.821 / SU ML: 0.081 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.108 / ESU R Free: 0.107 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. ATOM RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL B FACTORS, ANISOU RECORD CONTAINS SUM OF TLS AND RESIDUAL U FACTORS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.204
2858
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.169
-
-
-
obs
0.171
53533
98 %
-
all
-
53533
-
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK