プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97945 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→51.71 Å / Num. obs: 81807 / % possible obs: 96.1 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 4.2 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 13.7
反射 シェル
解像度: 1.7→1.79 Å / 冗長度: 3.8 % / Rmerge(I) obs: 0.26 / Mean I/σ(I) obs: 4 / % possible all: 80.1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0019
精密化
MOSFLM
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.7→74.54 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.943 / SU B: 1.845 / SU ML: 0.062 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.106 / ESU R Free: 0.102 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.198
4084
5 %
RANDOM
Rwork
0.167
-
-
-
obs
0.168
77514
95.8 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.4 Å / 溶媒モデル: MASK