解像度: 1.6→1.69 Å / 冗長度: 3.2 % / Mean I/σ(I) obs: 2.7 / Num. unique all: 4184 / Rsym value: 0.386 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.2.0000
精密化
MOSFLM
データ削減
CCP4
(SCALA)
データスケーリング
SHARP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 多波長異常分散 / 解像度: 1.6→10 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.965 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.949 / SU B: 2.762 / SU ML: 0.051 / TLS residual ADP flag: LIKELY RESIDUAL Isotropic thermal model: Isotropic with TLS (2 TLS groups per monomer) 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.073 / ESU R Free: 0.08 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: Seleno MAD used to solve higher resolution crystal, rigid body fit of MAD model was refined against native data
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21398
1460
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.17444
-
-
-
all
0.1765
-
-
-
obs
0.1765
27121
98.91 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK