プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.8→19.1 Å / Num. all: 38910 / Num. obs: 37358 / % possible obs: 96 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / Biso Wilson estimate: 10.9 Å2 / Limit h max: 26 / Limit h min: 0 / Limit k max: 35 / Limit k min: 0 / Limit l max: 76 / Limit l min: 0 / Observed criterion F max: 1347878.94 / Observed criterion F min: 1.34
反射 シェル
解像度: 1.8→1.86 Å / % possible all: 94.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
NB
CNS
1.1
精密化
DENZO
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
EPMR
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.8→19.1 Å / Rfactor Rfree error: 0.006 / Occupancy max: 1 / Occupancy min: 1 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 2 / 立体化学のターゲット値: Engh & Huber 詳細: Missing atoms: following residues in REMARK 470 were not built with all atoms based on the available electron density data.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.249
1857
5 %
RANDOM
Rwork
0.223
-
-
-
all
-
38915
-
-
obs
-
37358
96 %
-
溶媒の処理
溶媒モデル: CNS bulk solvent model used / Bsol: 34.997 Å2 / ksol: 0.396111 e/Å3