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基本情報
登録情報 | データベース: PDB / ID: 1dkp | ||||||
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タイトル | CRYSTAL STRUCTURE OF PHYTATE COMPLEX OF ESCHERICHIA COLI PHYTASE AT PH 6.6. PHYTATE IS BOUND WITH ITS 3-PHOSPHATE IN THE ACTIVE SITE. HG2+ CATION ACTS AS AN INTERMOLECULAR BRIDGE | ||||||
![]() | PHYTASE | ||||||
![]() | HYDROLASE / HISTIDINE ACID PHOSPHATASE FOLD | ||||||
機能・相同性 | ![]() inositol phosphate phosphatase activity / inositol hexakisphosphate 4-phosphatase activity / cellular response to anoxia / nucleotidase activity / sugar-phosphatase activity / acid phosphatase activity / 加水分解酵素; エステル加水分解酵素; 1価のリン酸エステル加水分解酵素 / cellular response to phosphate starvation / 加水分解酵素; 酸無水物に作用; リン含有酸無水物に作用 / outer membrane-bounded periplasmic space / GTPase activity 類似検索 - 分子機能 | ||||||
生物種 | ![]() ![]() | ||||||
手法 | ![]() | ||||||
![]() | Lim, D. / Golovan, S. / Forsberg, C.W. / Jia, Z. | ||||||
![]() | ![]() タイトル: Crystal structures of Escherichia coli phytase and its complex with phytate. 著者: Lim, D. / Golovan, S. / Forsberg, C.W. / Jia, Z. #1: ![]() タイトル: Purification, Crystallization and Preliminary X-ray Analysis of the Escherichia coli Phytase 著者: Jia, Z. / Golovan, S. / Ye, Q. / Forsberg, C.W. #2: ![]() タイトル: The Complete Nucleotide Sequence of the Escherichia coli Gene appA Reveals Significant Homology Between pH 2.5 Acid Phosphatase and Glucose-1-phosphatase 著者: Dassa, J. / Marck, C. / Boquet, P.L. | ||||||
履歴 |
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構造の表示
構造ビューア | 分子: ![]() ![]() |
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ダウンロードとリンク
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ダウンロード
PDBx/mmCIF形式 | ![]() | 99.3 KB | 表示 | ![]() |
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PDB形式 | ![]() | 74.4 KB | 表示 | ![]() |
PDBx/mmJSON形式 | ![]() | ツリー表示 | ![]() | |
その他 | ![]() |
-検証レポート
アーカイブディレクトリ | ![]() ![]() | HTTPS FTP |
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-関連構造データ
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リンク
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集合体
登録構造単位 | ![]()
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1 |
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単位格子 |
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詳細 | The biological assembly is the single molecule in the asymmetric unit. |
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要素
#1: タンパク質 | 分子量: 44696.609 Da / 分子数: 1 / 変異: A116T, H17A / 由来タイプ: 組換発現 / 由来: (組換発現) ![]() ![]() ![]() ![]() | ||||||
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#2: 化合物 | ChemComp-HG / #3: 化合物 | ChemComp-IHP / | #4: 水 | ChemComp-HOH / | Has protein modification | Y | |
-実験情報
-実験
実験 | 手法: ![]() |
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試料調製
結晶 | マシュー密度: 2.68 Å3/Da / 溶媒含有率: 54.08 % | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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結晶化 | 温度: 298 K / 手法: 蒸気拡散法, ハンギングドロップ法 / pH: 6.6 詳細: ETHYLENE GLYCOL, GLYCEROL, 2-MORPHOLINOPROPANESULFONIC ACID, MERCURIC CHLORIDE, pH 6.6, VAPOR DIFFUSION, HANGING DROP, temperature 298K | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
結晶化 | *PLUS 手法: 蒸気拡散法 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶液の組成 | *PLUS
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-データ収集
回折 | 平均測定温度: 100 K |
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放射光源 | 由来: ![]() |
検出器 | タイプ: MARRESEARCH / 検出器: IMAGE PLATE / 日付: 1999年6月20日 |
放射 | プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray |
放射波長 | 波長: 1.5418 Å / 相対比: 1 |
反射 | 解像度: 2.28→25 Å / Num. all: 94671 / Num. obs: 41377 / % possible obs: 97.4 % / Observed criterion σ(F): 0 / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 2.3 % / Biso Wilson estimate: 22.3 Å2 / Rmerge(I) obs: 0.031 / Net I/σ(I): 22.38 |
反射 シェル | 解像度: 2.28→2.36 Å / 冗長度: 1.9 % / Rmerge(I) obs: 0.088 / % possible all: 89.6 |
反射 | *PLUS 最高解像度: 2.5 Å / 最低解像度: 25 Å / Num. all: 48024 / Num. obs: 30534 / % possible obs: 93.7 % / Rmerge(I) obs: 0.039 |
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解析
ソフトウェア |
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精密化 | 解像度: 2.28→25 Å / Rfactor Rfree error: 0.005 / Data cutoff high absF: 1443774.67 / Data cutoff low absF: 0 / Isotropic thermal model: RESTRAINED / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / σ(I): 0 / 立体化学のターゲット値: ENGH & HUBER / 詳細: MAXIMUM LIKELIHOOD
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溶媒の処理 | 溶媒モデル: FLAT MODEL / Bsol: 41.44 Å2 / ksol: 0.349 e/Å3 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | Biso mean: 35.2 Å2
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Refine analyze |
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精密化ステップ | サイクル: LAST / 解像度: 2.28→25 Å
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拘束条件 |
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LS精密化 シェル | 解像度: 2.28→2.42 Å / Rfactor Rfree error: 0.017 / Total num. of bins used: 6
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Xplor file |
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ソフトウェア | *PLUS 名称: CNS / バージョン: 0.5 / 分類: refinement | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
精密化 | *PLUS σ(F): 0 / % reflection Rfree: 5 % / 最高解像度: 2.5 Å / 最低解像度: 25 Å | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
溶媒の処理 | *PLUS | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
原子変位パラメータ | *PLUS Biso mean: 35.2 Å2 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
拘束条件 | *PLUS
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LS精密化 シェル | *PLUS Rfactor Rfree: 0.281 / % reflection Rfree: 4.3 % / Rfactor Rwork: 0.22 |