プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54182 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.1→40 Å / Num. obs: 23705 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 7.4 % / Rmerge(I) obs: 0.065 / Net I/σ(I): 17.4
反射 シェル
解像度: 2.1→2.2 Å / 冗長度: 7.3 % / Rmerge(I) obs: 1.25 / Mean I/σ(I) obs: 1.8 / Num. unique obs: 3089 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.1→38 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 10.825 / SU ML: 0.148 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.189 / ESU R Free: 0.168 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2192
1185
5 %
RANDOM
Rwork
0.17284
-
-
-
obs
0.17509
22516
99.95 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK