プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.9→50 Å / Num. obs: 74402 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.108 / Rsym value: 0.108 / Net I/σ(I): 16.3
反射 シェル
解像度: 2.9→2.95 Å / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.432 / Mean I/σ(I) obs: 4.1 / % possible all: 99.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.89→30.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.896 / SU B: 14.556 / SU ML: 0.264 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.35 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22864
3750
5 %
RANDOM
Rwork
0.17118
-
-
-
obs
0.17407
70652
99.23 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK