モノクロメーター: C110 / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.966 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.45→46.6 Å / Num. obs: 55022 / % possible obs: 92.5 % / Observed criterion σ(I): 3 / 冗長度: 34.1 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 27.3
反射 シェル
解像度: 1.45→1.5 Å / 冗長度: 18.8 % / Rmerge(I) obs: 0.65 / Mean I/σ(I) obs: 1.3 / % possible all: 61.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
SHELXDE
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.45→80.63 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.974 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.966 / SU B: 2.56 / SU ML: 0.043 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.071 / ESU R Free: 0.064 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18031
2694
5 %
RANDOM
Rwork
0.14396
-
-
-
obs
0.14576
50986
90.15 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.7 Å / 減衰半径: 0.7 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK