プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→50.46 Å / Num. obs: 60154 / % possible obs: 99.98 % / 冗長度: 9.2 % / CC1/2: 1 / Net I/σ(I): 17.1
反射 シェル
解像度: 1.67→1.73 Å / 冗長度: 9 % / Num. unique obs: 5957 / CC1/2: 0.48 / CC star: 0.805 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
xia2
データスケーリング
REFMAC
5.8.0267
精密化
PDB_EXTRACT
3.27
データ抽出
HKL-2000
データ削減
AutoSol
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.67→50.46 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.95 / SU B: 3.234 / SU ML: 0.054 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.067 / ESU R Free: 0.066 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : WITH TLS ADDED
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1963
3049
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.1816
-
-
-
obs
0.1823
57107
99.98 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK