モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.12 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.6→43.42 Å / Num. obs: 40100 / % possible obs: 90.1 % / 冗長度: 7.9 % / CC1/2: 0.997 / Rmerge(I) obs: 0.112 / Net I/σ(I): 11.2
反射 シェル
解像度: 1.6→1.63 Å / 冗長度: 7.2 % / Rmerge(I) obs: 1.039 / Mean I/σ(I) obs: 1.7 / Num. unique obs: 956 / CC1/2: 0.66 / % possible all: 48.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0253
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHENIX
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.6→20 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.946 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.918 / SU B: 6.624 / SU ML: 0.1 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.144 / ESU R Free: 0.11 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.245
2014
5 %
RANDOM
Rwork
0.192
-
-
-
obs
0.195
38053
90.01 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK