プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9801 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.67→50 Å / Num. obs: 79955 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 6.82 % / CC1/2: 0.99 / Rrim(I) all: 0.06 / Net I/σ(I): 21.9
反射 シェル
解像度: 1.67→1.78 Å / 冗長度: 6.67 % / Mean I/σ(I) obs: 3.36 / Num. unique obs: 12767 / CC1/2: 0.92 / Rrim(I) all: 0.61 / % possible all: 98
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0258
精密化
XDS
データ削減
XDS
データスケーリング
Auto-Rickshaw
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.67→43.3 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.97 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.96 / SU B: 3.447 / SU ML: 0.06 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.097 / ESU R Free: 0.093 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: U VALUES : WITH TLS ADDED HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : RESIDUAL ONLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.18552
2107
5 %
RANDOM
Rwork
0.15782
-
-
-
obs
0.15919
40018
99.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK