プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→30 Å / Num. obs: 32976 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 4 % / Net I/σ(I): 17.5
反射 シェル
解像度: 2→2.051 Å / Num. unique obs: 2218
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0222
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→29.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.957 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 8.956 / SU ML: 0.111 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.18 / ESU R Free: 0.16 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21849
1741
5 %
RANDOM
Rwork
0.17182
-
-
-
obs
0.17418
32976
99.02 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK