プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→30 Å / Num. obs: 32438 / % possible obs: 98.4 % / 冗長度: 3.9 % / Net I/σ(I): 12.5
反射 シェル
解像度: 2→2.053 Å / Num. unique obs: 2017
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0222
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→29.42 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.924 / SU B: 10.696 / SU ML: 0.13 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.196 / ESU R Free: 0.176 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.2376
1712
5 %
RANDOM
Rwork
0.18229
-
-
-
obs
0.18503
32438
98.17 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK