プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97934 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.3→84.89 Å / Num. obs: 47285 / % possible obs: 97.99 % / 冗長度: 3.5 % / Net I/σ(I): 30.1
反射 シェル
解像度: 2.3→2.38 Å
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0238
精密化
DENZO
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→30.7 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.933 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.907 / SU B: 32.455 / SU ML: 0.322 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.362 / ESU R Free: 0.274 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.30346
2382
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.25747
-
-
-
obs
0.25975
47285
97.99 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK