モノクロメーター: Helios MX Mirrors / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→50.9 Å / Num. obs: 38677 / % possible obs: 100 % / 冗長度: 4.2 % / Biso Wilson estimate: 30.2 Å2 / Rpim(I) all: 0.062 / Net I/σ(I): 12
反射 シェル
解像度: 2.5→2.6 Å / 冗長度: 4.2 % / Mean I/σ(I) obs: 2.1 / Num. unique obs: 4326 / Rpim(I) all: 0.42 / % possible all: 99.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 開始モデル: D_1200009303 解像度: 2.5→50.9 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.964 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.942 / SU B: 8.832 / SU ML: 0.182 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.4 / ESU R Free: 0.23 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20326
1978
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.15999
-
-
-
obs
0.16216
36655
99.9 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK