プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9795 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→128 Å / Num. obs: 49885 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 10.6 % / Rmerge(I) obs: 0.229 / Net I/σ(I): 10.3
反射 シェル
解像度: 2.2→2.27 Å / 冗長度: 9.7 % / Mean I/σ(I) obs: 5.5 / % possible all: 99.7
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0189
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
REFMAC
位相決定
精密化
構造決定の手法: フーリエ合成 開始モデル: native T-state of GPb 解像度: 2.2→90.89 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.957 / SU B: 7.445 / SU ML: 0.094 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.182 / ESU R Free: 0.143 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.16686
2425
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.13628
-
-
-
obs
0.13777
47423
99.65 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1 Å / 溶媒モデル: MASK