プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9797 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.4→50 Å / Num. obs: 108038 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 13.9 % / CC1/2: 0.998 / Net I/σ(I): 11.8
反射 シェル
解像度: 2.4→2.8 Å / 冗長度: 13.7 % / Mean I/σ(I) obs: 2.5 / CC1/2: 0.826 / Rrim(I) all: 0.152 / % possible all: 99.6
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0158
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
SHELXCD
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.4→48.91 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.92 / SU B: 8.792 / SU ML: 0.199 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.292 / ESU R Free: 0.24 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26956
5687
5 %
RANDOM
Rwork
0.2258
-
-
-
obs
0.22799
108038
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK