プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
ID
波長 (Å)
相対比
1
1
1
2
0.9
1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.638
1
1
-H, -K, H+L
2
0.362
反射
解像度: 1.2→50 Å / Num. obs: 170429 / % possible obs: 97.5 % / 冗長度: 3.7 % / Rmerge(I) obs: 0.073 / Net I/σ(I): 14.5
反射 シェル
解像度: 1.2→1.22 Å / 冗長度: 3.6 % / Rmerge(I) obs: 0.736 / CC1/2: 0.59 / % possible all: 100
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
データ削減
SCALEPACK
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.2→30.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.974 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.968 / SU B: 0.868 / SU ML: 0.019 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.008 / ESU R Free: 0.008 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.17074
8342
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.1397
-
-
-
obs
0.14117
161958
97.4 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK