モノクロメーター: Si / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.28136 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.79→45.74 Å / Num. obs: 13205 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 14 % / Rmerge(I) obs: 0.098 / Net I/σ(I): 22.7
反射 シェル
解像度: 2.79→2.94 Å / 冗長度: 13.8 % / Rmerge(I) obs: 0.452 / Mean I/σ(I) obs: 7.1 / % possible all: 98.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
dataprocessing
Aimless
データスケーリング
PHENIX
位相決定
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.79→45.74 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.942 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.92 / SU B: 29.621 / SU ML: 0.274 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.365 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23583
650
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.19738
-
-
-
obs
0.19916
12523
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK