モノクロメーター: SI(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97918 Å / 相対比: 1
Reflection twin
Crystal-ID
ID
Operator
Domain-ID
Fraction
1
1
H, K, L
1
0.572
1
1
K, H, -L
2
0.428
反射
解像度: 2.5→30.01 Å / Num. obs: 18768 / % possible obs: 100 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 5 % / Rmerge(I) obs: 0.13 / Net I/σ(I): 12.2
反射 シェル
解像度: 2.5→2.54 Å / 冗長度: 4.6 % / Rmerge(I) obs: 0.587 / Mean I/σ(I) obs: 1.83 / % possible all: 99
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 2.5→30.01 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.931 / SU B: 11.105 / SU ML: 0.117 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.06 / ESU R Free: 0.042 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. Refinement performed against intensities.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20492
1861
9.9 %
thin resolution shells
Rwork
0.19044
-
-
-
obs
0.19191
16893
99.82 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK