モノクロメーター: double crystal Si(111) / プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97947 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→47.29 Å / Num. obs: 82603 / % possible obs: 99.8 % / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.102 / Net I/σ(I): 14
反射 シェル
解像度: 1.85→1.89 Å / 冗長度: 6.8 % / Rmerge(I) obs: 0.871 / Mean I/σ(I) obs: 2.4 / % possible all: 99.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0135
精密化
Coot
モデル構築
PHENIX
モデル構築
PHASER
位相決定
Aimless
データスケーリング
XDS
dataprocessing
MAR345dtb
データ収集
精密化
解像度: 1.85→45 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.961 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.947 / SU B: 4.641 / SU ML: 0.073 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.104 / ESU R Free: 0.106 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.19591
4080
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.15907
-
-
-
obs
0.16088
78448
99.73 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK