プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.25→44.39 Å / Num. obs: 224933 / % possible obs: 99.7 % / 冗長度: 6.24 % / Net I/σ(I): 16.41
反射 シェル
解像度: 1.25→1.35 Å / 冗長度: 5.47 % / Mean I/σ(I) obs: 2.71 / % possible all: 99.2
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.7.0032
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 1.25→40.76 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.985 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.979 / SU B: 1.367 / SU ML: 0.026 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.035 / ESU R Free: 0.036 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.15153
11245
5 %
RANDOM
Rwork
0.1219
-
-
-
obs
0.12339
213608
99.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK