#241 - 2020年1月 20年の分子を振り返って (Twenty Years of Molecules) 類似性 (2)
-
集合体
登録構造単位
A: Repressor B: Repressor C: Repressor D: Repressor E: Anti-repressor protein G: Anti-repressor protein I: Repressor J: Repressor K: Repressor L: Repressor M: Anti-repressor protein O: Anti-repressor protein F: Anti-repressor protein H: Anti-repressor protein N: Anti-repressor protein P: Anti-repressor protein
A: Repressor B: Repressor C: Repressor D: Repressor E: Anti-repressor protein G: Anti-repressor protein F: Anti-repressor protein H: Anti-repressor protein
I: Repressor J: Repressor K: Repressor L: Repressor M: Anti-repressor protein O: Anti-repressor protein N: Anti-repressor protein P: Anti-repressor protein
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.00001 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.49→50 Å / Num. obs: 96551 / % possible obs: 99.3 % / 冗長度: 3.8 % / Net I/σ(I): 27.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
HKL-2000
dataprocessing
HKL-2000
データスケーリング
PHENIX
位相決定
DENZO
データ削減
精密化
解像度: 2.49→36.61 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.944 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.939 / SU B: 4.376 / SU ML: 0.107 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.3 / ESU R Free: 0.204 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.21006
4743
4.9 %
RANDOM
Rwork
0.20087
-
-
-
obs
0.20131
92085
98.18 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK