プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.2→43.94 Å / Num. obs: 7374 / % possible obs: 98.3 % / 冗長度: 18.4 % / Rmerge(I) obs: 0.104 / Net I/σ(I): 29.3
反射 シェル
解像度: 2.2→2.24 Å / 冗長度: 14.4 % / Rmerge(I) obs: 0.859 / % possible all: 85.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
HKL-2000
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
Coot
モデル構築
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2.3→43.94 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.945 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.909 / SU B: 22.918 / SU ML: 0.271 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.397 / ESU R Free: 0.277 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.28827
341
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.23564
-
-
-
obs
0.23826
6372
99.47 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK