プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.7 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 0.9→50 Å / Num. obs: 325304 / % possible obs: 95.1 % / 冗長度: 3 % / Rmerge(I) obs: 0.073 / Net I/σ(I): 11.6
反射 シェル
解像度: 0.9→0.92 Å / 冗長度: 2.2 % / Rmerge(I) obs: 0.354 / Mean I/σ(I) obs: 2.38 / % possible all: 94.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
DENZO
データ削減
HKL-2000
データスケーリング
MOLREP
位相決定
精密化
解像度: 0.9→50 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.981 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.979 / SU B: 0.344 / SU ML: 0.009 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.013 / ESU R Free: 0.014 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.12735
16000
5 %
RANDOM
Rwork
0.11628
-
-
-
obs
0.11683
300000
95.11 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK