プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.93 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2→29.3 Å / Num. obs: 67936 / % possible obs: 92.6 % / Observed criterion σ(I): -3 / 冗長度: 2.7 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 9.1
反射 シェル
解像度: 2→2.05 Å / 冗長度: 2.8 % / Rmerge(I) obs: 0.55 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / % possible all: 50.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
AutoPROC
データ削減
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
構造決定の手法: 分子置換 / 解像度: 2→91.99 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.951 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.923 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.228 / ESU R Free: 0.19 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS. U VALUES REFINED INDIVIDUALLY, BUT HAVE NOT BEEN WRITTEN INTO THE PDB FILE
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.24779
3461
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.20065
-
-
-
obs
0.20302
64415
92.43 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK