プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9792 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.77→40.96 Å / Num. obs: 53660 / % possible obs: 97.5 % / Observed criterion σ(I): 0 / 冗長度: 3.81 % / Rmerge(I) obs: 0.05 / Net I/σ(I): 10.73
反射 シェル
解像度: 1.77→1.87 Å / 冗長度: 3.55 % / Rmerge(I) obs: 0.46 / % possible all: 83.5
-
解析
ソフトウェア
名称: REFMAC / バージョン: 5.2.0005 / 分類: 精密化
精密化
構造決定の手法: 単一同系置換・異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.78→70.89 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.948 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.926 / SU B: 2.801 / SU ML: 0.089 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.12 / ESU R Free: 0.123 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.25421
2726
5.1 %
RANDOM
Rwork
0.21048
-
-
-
obs
0.21264
50907
99.42 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK