プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9797 Å / 相対比: 1
Reflection
Limit h max: 25 / Limit h min: 1 / Limit k max: 18 / Limit k min: 0 / Limit l max: 38 / Limit l min: 0 / 数: 53929 / D res high: 2.233 Å / D res low: 29 Å / Num. obs: 53901
反射
解像度: 1.5→48.4 Å / Num. obs: 16982 / % possible obs: 73.1 % / 冗長度: 2.8 % / Net I/σ(I): 12.1
Reflection scale
Group code: 1
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
SCALA
データスケーリング
PDB_EXTRACT
3.15
データ抽出
XSCALE
データスケーリング
Coot
モデル構築
XDS
データ削減
REFMAC
位相決定
精密化
解像度: 1.5→48.43 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.975 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.959 / SU B: 2.223 / SU ML: 0.037 / 交差検証法: THROUGHOUT / σ(F): 0 / ESU R: 0.123 / ESU R Free: 0.079 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS U VALUES : REFINED INDIVIDUALLY
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.1628
862
4.8 %
RANDOM
Rwork
0.1336
-
-
-
obs
0.135
16982
72.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK