プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.97856 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.85→30 Å / Num. obs: 75985 / % possible obs: 99.2 % / 冗長度: 6.5 % / Rmerge(I) obs: 0.085 / Net I/σ(I): 31.6
反射 シェル
解像度: 1.85→1.88 Å / 冗長度: 5.8 % / Rmerge(I) obs: 0.643 / Mean I/σ(I) obs: 2.36 / Num. unique all: 3546 / % possible all: 92.9
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0103
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
HKL-3000
位相決定
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 / 解像度: 1.85→29.34 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.962 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.954 / SU B: 6.428 / SU ML: 0.091 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.115 / ESU R Free: 0.11 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.20801
3735
5 %
RANDOM
Rwork
0.18028
-
-
-
obs
0.18164
71643
99.05 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK