プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.5418 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.7→50 Å / Num. obs: 8190 / % possible obs: 97.2 % / 冗長度: 6.8 % / Net I/σ(I): 28.9
反射 シェル
解像度: 1.7→1.73 Å / 冗長度: 2.8 % / Rmerge(I) obs: 0.11 / Mean I/σ(I) obs: 7.52 / % possible all: 92.4
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0049
精密化
HKL-3000
データ削減
HKL-3000
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 1.7→31.49 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.954 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.94 / SU B: 2.269 / SU ML: 0.072 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.112 / ESU R Free: 0.108 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD WITH PHASES 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.23255
369
4.6 %
RANDOM
Rwork
0.20508
-
-
-
obs
0.20634
7707
96.76 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK