- PDB-4x1j: X-ray crystal structure of the dimeric BMP antagonist NBL1 -
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基本情報
登録情報
データベース: PDB / ID: 4x1j
タイトル
X-ray crystal structure of the dimeric BMP antagonist NBL1
要素
Neuroblastoma suppressor of tumorigenicity 1
キーワード
BMP Binding Protein / BMP antagonist / DAN family / Cystine-knot
機能・相同性
機能・相同性情報
sequestering of BMP from receptor via BMP binding / sequestering of BMP in extracellular matrix / negative regulation of monocyte chemotaxis / determination of dorsal identity / morphogen activity / BMP binding / negative regulation of BMP signaling pathway / positive regulation of neuron differentiation / neuron projection morphogenesis / nervous system development ...sequestering of BMP from receptor via BMP binding / sequestering of BMP in extracellular matrix / negative regulation of monocyte chemotaxis / determination of dorsal identity / morphogen activity / BMP binding / negative regulation of BMP signaling pathway / positive regulation of neuron differentiation / neuron projection morphogenesis / nervous system development / receptor ligand activity / extracellular space / identical protein binding 類似検索 - 分子機能
Neuroblastoma suppressor of tumourigenicity 1 / DAN / DAN domain / Cystine knot, C-terminal / C-terminal cystine knot-like domain (CTCK) / Cystine Knot Cytokines, subunit B / Cystine-knot cytokines / Cystine-knot cytokine / Ribbon / Mainly Beta 類似検索 - ドメイン・相同性
Neuroblastoma suppressor of tumorigenicity 1 類似検索 - 構成要素
プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.979 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.5→55.18 Å / Num. obs: 9690 / % possible obs: 99.68 % / 冗長度: 12.3 % / Net I/σ(I): 23.5
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0073
精密化
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
PHASER
位相決定
精密化
解像度: 2.5→55.18 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.936 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.914 / SU B: 21.712 / SU ML: 0.218 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R Free: 0.281 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.27315
964
10 %
RANDOM
Rwork
0.21576
-
-
-
obs
0.22175
8674
99.68 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK