プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9801 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 2.44→44.28 Å / Num. all: 94329 / Num. obs: 25516 / % possible obs: 99.11 % / 冗長度: 3.69 % / Net I/σ(I): 14.69
反射 シェル
解像度: 2.443→2.53 Å / % possible all: 94.59
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.8.0071
精密化
XDS
データ削減
XSCALE
データスケーリング
精密化
解像度: 2.44→44.28 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.943 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.924 / SU B: 21.586 / SU ML: 0.226 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.296 / ESU R Free: 0.245 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.26991
1276
5 %
RANDOM
Rwork
0.22452
-
-
-
obs
0.22677
24239
99.09 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK