プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 0.9763 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.82→76.16 Å / Num. obs: 87041 / % possible obs: 99.1 % / 冗長度: 7.2 % / Rmerge(I) obs: 0.08 / Net I/σ(I): 15.4
反射 シェル
解像度: 1.82→1.87 Å / 冗長度: 5.4 % / Rmerge(I) obs: 0.8 / Mean I/σ(I) obs: 1.9 / % possible all: 93.8
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
xia2
データ削減
XDS
データ削減
Aimless
データスケーリング
SHELX
位相決定
ARP/wARP
位相決定
REFMAC
5.8.0073
精密化
精密化
構造決定の手法: 単波長異常分散 開始モデル: NONE 解像度: 1.82→76.16 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.968 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.951 / SU B: 3.113 / SU ML: 0.092 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.123 / ESU R Free: 0.122 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.22872
4345
5 %
RANDOM
Rwork
0.18994
-
-
-
obs
0.19187
82652
99.08 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: MASK