プロトコル: SINGLE WAVELENGTH / 単色(M)・ラウエ(L): M / 散乱光タイプ: x-ray
放射波長
波長: 1.54178 Å / 相対比: 1
反射
解像度: 1.64→36.26 Å / Num. obs: 26838 / % possible obs: 91 % / Observed criterion σ(I): 2 / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.02 / Net I/σ(I): 41.4
反射 シェル
解像度: 1.64→1.72 Å / 冗長度: 2.1 % / Rmerge(I) obs: 0.03 / Mean I/σ(I) obs: 24.8 / % possible all: 84.3
-
解析
ソフトウェア
名称
バージョン
分類
REFMAC
5.6.0117
精密化
XDS
データ削減
SCALA
データスケーリング
精密化
構造決定の手法: 分子置換 開始モデル: NONE 解像度: 1.64→36.26 Å / Cor.coef. Fo:Fc: 0.953 / Cor.coef. Fo:Fc free: 0.941 / SU B: 3.089 / SU ML: 0.06 / 交差検証法: THROUGHOUT / ESU R: 0.108 / ESU R Free: 0.098 / 立体化学のターゲット値: MAXIMUM LIKELIHOOD / 詳細: HYDROGENS HAVE BEEN ADDED IN THE RIDING POSITIONS.
Rfactor
反射数
%反射
Selection details
Rfree
0.187
620
5 %
RANDOM
Rwork
0.16307
-
-
-
obs
0.16431
11887
90.69 %
-
溶媒の処理
イオンプローブ半径: 0.8 Å / 減衰半径: 0.8 Å / VDWプローブ半径: 1.2 Å / 溶媒モデル: BABINET MODEL WITH MASK